Medir la forma completa de una oblea con gran resolución y a velocidad industrial es uno de los desafíos de la fabricación de chips avanzados. Wooptix traslada a la metrología de semiconductores una técnica nacida en la óptica adaptativa astronómica: Wavefront Phase Imaging®. Esta tecnología reconstruye mapas de fase de alta resolución y permite observar deformaciones y topografías que influyen directamente en el control del proceso y el rendimiento de fabricación.
Phemet® es su sistema automatizado para obleas de 300 milímetros. Mide en una sola captura la forma, la nanotopografía y la rugosidad de toda la superficie, y genera millones de puntos de datos sobre curvatura, alabeo y parámetros personalizados. El manejo vertical de la oblea, el formato compacto y la resistencia a vibraciones están pensados para integrar el equipo en entornos de producción con alta exigencia de espacio y estabilidad.
Los datos pueden incorporarse a algoritmos feed-forward y otros métodos de control en línea, ayudando a localizar el origen de errores y ajustar etapas posteriores. Esta capacidad adquiere especial importancia en arquitecturas tridimensionales, unión híbrida y empaquetado avanzado, donde pequeñas deformaciones afectan alineación y rendimiento. Wooptix combina campo completo, velocidad y resolución para que la metrología acompañe a la producción de gran volumen.
La compañía desarrolla además sensores como SEBI® RT1000, una cámara de frente de onda que procesa hasta 30 imágenes por segundo y trabaja con muestras transparentes o reflectantes en escalas nanométricas y micrométricas. Sus aplicaciones incluyen inspección de materiales, caracterización óptica, medida láser y entornos de investigación. Así, la misma base tecnológica sirve tanto a una fábrica de semiconductores como a laboratorios que necesitan observar fase y forma en tiempo real.
